Applicator
기체 상태의 물질에 열을 가하여 온도를 높이면 이온 핵과 자유전자로 구성된 입자들이 만들어집니다.
이것은 물질의 세 가지 형태인 고체, 액체, 기체와는 다른 제4의 물질 상태로 불리며, 이러한 상태를
플라즈마라고 합니다.
기체에 큰 에너지를 가하면 상태전이와는 다른 이온화된 입자들이 형성되며 이때 양이온과 음이온의
총 전하수는 거의 동일해집니다. 이러한 상태가 전기적으로 중성을 띄는 플라즈마 상태라고 합니다.
플라즈마는 우리의 일상에 매우 많이 적용이 되며 특히, 반도체 산업에서의 응용은 식각 공정에서의 응용이 있습니다.
반도체 공정은 실리콘 기판 위에 물질을 증착, 식각하는 과정을 반복하여 반도체를 제조합니다. 이러한 과정 중에 플라즈마를 이용한 식각 공정이 대표적이라 할 수 있습니다.
플라즈마는 액체 또는 기체보다 훨씬 활발한 반응을 갖는 재료를 실리콘 기판 위에 공급할 수 있기 때문에 기존 물질로는 어려웠던 여러 가지 공정을 가능하게 합니다.
또한, 플라즈마는 높은 전기 에너지를 가지므로 플라즈마 내부에 존재하는 이온은 실리콘 기판에 도달할 때 전기장에 의하여 가속하게 되는데 이러한 가속에 의하여
실리콘 기판 위에 존재하는 물질을 수직으로 식각할 수 있습니다.
일반적인 플라즈마 시스템의 구성도
플라즈마 어플리케이터의 외형 및 어플리케이터의 내부에 장착되는 어플리케이터 튜브의 외형
제품의 전체 분해 후 모든 부품들의 교환 및 세정의 과정을 거친 후 자체 검사장비를 이용하여 각종 누수 및
조립의 오류 등 제품 설치 전에 설비와 유사한 환경에서 모든 제품을 검사합니다.
어플리케이터의 제작 및 수리는 아래의 과정으로 진행이 되며, 여러 종류의 어플리케이터에 대한 수리작업이 모두 가능합니다.
어플리케이터는 일반적으로 쿼츠와 사파이어 제품으로 나뉘며, 제품별로 다양한 규격으로 구분이 됩니다.
어플리케이터의 수리작업은 쿼츠및 사파이어 튜브를 사용하는 모든 제품들에 대한 수리작업이 가능합니다.
